超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第1册
《超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第1册》,作者:方兆强 出版社:科学出版社 ISBN:15031733。本书主要介绍用于超大规模集成电路中的有关材料的性质及材料的理化检测技术．全书共四章，分别介绍了材料的电学特性、物理缺陷及杂质行为等方面的检测技术；硅材料中的有害点缺陷和晶体应变在化学上、结构上、电学上的各种行为以及各种消除有害效应的措施；各种过渡金属硅化物的形成工艺及特性分析．在
集成电子学
超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第3册
《超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第3册》,作者:杨沁清 出版社:科学出版社 ISBN:15031850。本书是《超大规模集成电子学微结构科学》的第三册．本册集中介绍了集成电路工艺中精细图形的成形和转换技术．全书共六章，前五章分别阐述了普通紫外光、电子束、X线和离子束光刻及等离子刻蚀方面的基本内容和进展，还介绍了精细图形的测量问题；最后一章介绍了精细粒子情况下的材料、物理和化学问题．
超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第2册
《超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第2册》,作者:方兆强等编译 出版社:科学出版社 ISBN:15031775。本书是《超大规模集成电子学 微结构科学》的第二册。全书共六章，分别介绍了用于超大规模集成电路中的一些器件和介质材料的特征、电学性质、物理限制及检测与分析方法． 本书可供从事大规模和超大规模集成电路研制和生产的研究人员、工程技术人员及大专院校有关专业师生、研究生参考．
