超大规模集成电子学 : 微结构科学. 第3册
15031850
杨沁清

TN47
科学出版社
1987-08
1987
1987
本书是《超大规模集成电子学微结构科学》的第三册.本册集中介绍了集成电路工艺中精细图形的成形和转换技术.全书共六章,前五章分别阐述了普通紫外光、电子束、X线和离子束光刻及等离子刻蚀方面的基本内容和进展,还介绍了精细图形的测量问题;最后一章介绍了精细粒子情况下的材料、物理和化学问题.

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