超大规模集成电路制造工艺的计算机辅助设计 15031704 (美)普卢默(Plummer, J.D.)著;刘永昌译 TN47 科学出版社 1986-03 1986 1986 本书比较全面地介绍了超大规模集成电路制造工艺的计算机辅助设计.内容包括:氧化、扩散、离子注入、化学汽相淀积、界面杂质分凝等模型及其模拟程序的执行过程. 书中论述了现有的理论公式、经验公式或因数据有限未能建立经验公式等三类物理化学问题在计算机上实现模拟的方法.
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