半导体材料的分析
130312297
冶金工业部科学技术情报产品标准研究所编

TN304
科学出版社
1966-04
1966
1966
本书叙述了高纯度的硅、二氧化硅、三氯硅烷、四氯化硅、锗、二氧化锗、镓、砷、砷化镓、铟等半导体材料及其中间产品中痕量杂质元素的测定方法,这些方法大部分是化学光谱法,此外也有比色法和极谱法.附录中叙述了高纯石墨的分析方法和高纯物质分析中常用试剂的提纯方法. 本书可供科

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