薄膜真空沉积中的等离子体探测方法与技术
《薄膜真空沉积中的等离子体探测方法与技术》,作者:陈吉堃 著 出版社:科学出版社 ISBN:9787030699152。低温等离子体被广泛应用于脉冲激光沉积、磁控溅射、等离子体增强化学气相沉积等现代半导体薄膜真空沉积技术中，并承担着薄膜组分物质输运、薄膜形核与生长动力学调控等关键性角色。由于等离子体性质是联系薄膜真空沉积条件与沉积性能的关键性纽带，以对等离子体性质的表征与探测为突破口并建立其与薄膜
投稿
微信公众账号
微信扫一扫加关注
顶部