集成电路
后摩尔时代集成电路新型互连技术
《后摩尔时代集成电路新型互连技术》,作者:赵文生,王高峰,尹文言 著 出版社:科学出版社 ISBN:9787030534187。本书针对后摩尔时代集成电路中的互连难题,集中讨论基于碳纳米材料的片上互连技术和三维集成电路的硅通孔技术。书中简单介绍集成电路互连技术的发展和后摩尔时代集成电路所面临的互连极限难题,重点讨论碳纳米管、石墨烯互连线以及硅通孔互连的一些关键科学问题,包括碳纳米互连的参数提取和电
高频CMOS模拟集成电路基础 | Fundamentals of high-frequency CNOS analog integrated circuits影印版
《高频CMOS模拟集成电路基础 | Fundamentals of high-frequency CNOS analog integrated circuits影印版》,作者:Duran Leblebici,Yusuf Leblebici[著] 出版社:科学出版社 ISBN:9787030315199。本书介绍了高频集成电路体系的构建与运行,重点讲解了晶体管级电路的工作体系,设备性能影响及伴随
超大规模集成电路布图理论与算法
《超大规模集成电路布图理论与算法》,作者:洪先龙等著 出版社:科学出版社 ISBN:7030065727。
模拟集成电路分析与设计 | 2版
《模拟集成电路分析与设计 | 2版》,作者:洪志良等编著 出版社:科学出版社 ISBN:9787030304261。本书以电路为轴线,从基础到复杂,从纯粹的模拟集成电路到数模混合信号集成电路,重点介绍模拟集成电路和数模混合信号集成电路中基本电路的概念、工作原理、电路分析和设计。
金属-氧化物-半导体集成电路 : 金属-氧化物-半导体大规模集成电路的理论、设计、制造和在整体中的应用
《金属-氧化物-半导体集成电路 : 金属-氧化物-半导体大规模集成电路的理论、设计、制造和在整体中的应用》,作者:不详 出版社:科学出版社 ISBN:15031143。金属-氧化物-半导体(MOS)大规模集成电路,是近十年来发展起来的一种新技术. 本书以铝栅P沟道MOS工艺为重点,对这一技术进行了比较全面的介绍.内容包括:MOS技术的优缺点及应用情况(第一章);MOS绝缘栅场效应晶体管的原理
集成电路中的现代半导体器件 : 英文版
《集成电路中的现代半导体器件 : 英文版》,作者:(美)Chenming Calvin Hu著 出版社:科学出版社 ISBN:9787030326652。本书主要介绍与集成电路相关的几种主流半导体器件的基本原理,包括PN结二极管、MOSFET器件和双极型晶体管(BJT),同时介绍了与这些半导体器件相关的集成工艺制造技术。
