超大规模集成电路先进光刻理论与应用
《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》,作者:韦亚一 出版社:科学出版社 ISBN:9787030482686。光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于
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