纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计
《纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计》,作者:(美)Sandip Kundu，(印)Aswin Sreedhar著；王昱阳，谢文遨译 出版社:科学出版社 ISBN:9787030400345。本书内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势；半导体制造技术；光刻技术；工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模；面向可制造性的物理设计技术；测量、制造缺陷和缺陷提取；缺陷影响的建模和合格率提高技术；物理
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