纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计
《纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计》,作者:(美)Sandip Kundu，(印)Aswin Sreedhar著；王昱阳，谢文遨译 出版社:科学出版社 ISBN:9787030400345。本书内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势；半导体制造技术；光刻技术；工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模；面向可制造性的物理设计技术；测量、制造缺陷和缺陷提取；缺陷影响的建模和合格率提高技术；物理
制造
多Agent技术在先进制造中的应用
《多Agent技术在先进制造中的应用》,作者:张洁等著 出版社:科学出版社 ISBN:7030142683。本书在总结分析现有的Agent技术和多Agent系统的研究和应用成果基础上，对多Agent系统的理论和技术在先进制造中的应用进行介绍。
